eyc-tech THM06工業級多功能露點傳送器 行業應用－露點傳送器監控氮氣供應系統

氣體在工業應用十分廣泛，如化工、鋼鐵、半導體、電子、醫療、石油、食品等，其種類繁多，可分為一般特殊氣體和工業氣體。若為使用在半導體產業為例，氮氣在半導體製程中是相當重要的氣體之一，且使用量最大，因其特性不導電且降溫速度快，可在製程中對設備產生保護作用，還可使用在危險氣體與空氣作隔離或低溫測試。

而氣體供應系統的氮氣，要求更是嚴格，需達到高潔淨、高純度及高度乾燥等條件；其中為控制乾燥程度，在氣體供應輸送系統的過程，會設置露點傳送器來監控氣體是否足夠低濕。

實際應用:
半導體廠的氮氣供應模式取決於用氣規模、氮氣生產工廠距離、工廠是零星分佈或是群聚設置使用不同的供氣模式，常見如桶槽供應模式、鋼瓶供應模式、管道供應模式、用氣端供應模式等。不論任一種供應模式，都必須由輸送系統之氮氣儲存容器，如高壓鋼瓶，或吸附式的氣體儲存鋼瓶，再透過管路將氣體供應至現場附近的閥箱，進行流量之控制與進氣的混合比例控制，再供應給製程後端機器使用。

氣體輸送系統示意圖：

在半導體產業使用的氮氣大多會直接接觸電子零件，純度需達到ppm、ppb級，潔淨度則為塵埃粒徑控制小於0.1 … 0.05m，乾燥度達到壓力露點-40℃ … -70℃。

為達到氮氣使用的標準，一般會安裝露點傳送器在氣體傳送至冷凍乾燥機前端，也可安裝在烘烤淨晶圓體前，如此一來可以更精準的監控氮氣運輸過程的露點值保持在極低濕的程度，以提高製程中的良率。

THM06工業級多功能露點傳送器，具有堅固的SUS304外殼、廣泛的應用領域，適用於在惡劣環境條件下使用；電容式晶片，高精度溫濕度量測，反應速度快和結露後可快速回復；穏定性佳，具溫度補償及電腦線性校正溫濕度功能。

量測範圍廣，溫度：-40...180°C，濕度：0 ... 100%RH，設計應用於化學污染和結露等苛刻環境環境使用，相當適合用於工業製程氣體的供應或壓縮乾燥機效能監控。

以半導體行業應用而言，氮氣的純度、潔淨度需控制在一定的範圍內，也因會直接接觸精細的加工製程，改善微量濕氣更是大大影響製程中產品的良率，經行業調查，25%以上的工業不良品，全是因無有效控制低濕環境所造成的損害，可見氣體供應輸送系統規畫中，搭配露點傳送器做監控是不可忽視重要環節；將監測與製程結合，更可隨時監視反應物及產物比例、不完全燃燒率等、幫助工廠節省成本，也能達到較佳之實用性與安全性。

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